設(shè)備用途:本設(shè)備主要用于對(duì)切片后的太陽能硅片進(jìn)行清洗、烘干處理
工藝流程:上料→超聲波水洗→超聲波水洗→超聲波堿洗→超聲波堿洗→超聲波漂洗→超聲波漂洗→預(yù)脫水→隧道烘干→下料
技術(shù)特點(diǎn):
●更安全的無接觸酸堿現(xiàn)場管理系統(tǒng)。
●更完善的全自動(dòng)烘干技術(shù)。
●更優(yōu)化的清洗流程,實(shí)現(xiàn)理想的清洗效果。
●獨(dú)特的去除切割損傷層功能,提高硅片表面質(zhì)量。