一、 設備特點
采用臥式結構，占地空間小，操作方便，可對一些小型工件在真空或者保護氣氛下進行熱處理，是高校、科研院所、工礦企業等做CVD、氣氛保護、還原和真空處理用的理想產品。
真空度可到達5pa，溫度1200度。
二、 結構說明：
1. 管式爐：外部為型鋼和板組成的爐殼，內部為耐火纖維組成的爐襯，加熱元件為高溫鐵鉻鋁，繞制在高鋁質的爐膛外，爐管為310S的耐高溫不銹鋼制成。
2. 真空箱：由不銹鋼板和型鋼組成，內部嚴格拋光，箱體上開有抽氣口，充放氣閥，觀察孔，電極引出孔等，真空箱設有爐門裝置，可手動打開，并有壓緊裝置。
3. 真空系統，由一臺機械泵配壓差閥、真空管路、壓力表、真空測量和真空計等組成。